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第二十三讲 面向极端规模和新兴技术中的DFx设计

日期: 2018-03-09
撰稿人:


第二十三讲  面向极端规模和新兴技术中的DFx设计

一、讲座详情

演讲题目面向极端规模和新兴技术中的DFx设计

演讲时间:2017年12月21日 11:00-12:00

演讲地点:清华大学罗姆楼 5-206

主讲人:David Z. Pan, 德克萨斯大学奥斯汀分校电子与计算机工程

二、  主讲人介绍

David Z. Pan在1992年获得北京大学物理学学士学位,2000年获得加州大学洛杉矶分校电脑科学博士学位。2000年至2003年期间,他在IBM T. J. Watson Research Center担任研究员职务。目前,他是德克萨斯大学奥斯汀分校电子与计算机工程系工程基金会教授。他著有超过300篇期刊文章和会议文献,拥有8项美国专利,辅导过超过20名已在学术和商业机构担任重要职务的博士研究生。他曾在许多顶尖的期刊编辑组与学术会议委员会中担任领导职务。此外,他还获得过许多学术奖项,包括SRC卓越技术奖,14项最佳论文奖,DAC Top 10论文作者奖,ASP-DAC频繁引用作者奖,ACM研究亮点传播奖,ACM/SIGDA 杰出新教师奖,NSF CAREER奖, NSFC海外及港澳学者合作研究奖,三次获得SRC 发明者认可奖,四次获得IBM教师奖,UCLA工程系杰出青年校友奖,德克萨斯大学奥斯汀分校 RAISE优秀教师奖,以及许多国际CAD竞赛奖。他是IEEE和SPIE会士。

三、演讲内容

随着半导体产业进入极限缩放(1x-nm)的时代,IC设计和制造所面临的挑战层出不穷,促使性能、能耗、制造性等方面的设计与技术优化(DTCO)成为燃眉之急。X设计(DFx, X代表能耗、性能、工艺性/回报、可靠性、安全性等)需要跨层信息的前馈与反馈来实现整体设计和制造的优化。本次讲座首先展示通过掩码合成、标准单元和物理设计实现DFx的方法及其挑战,并谈及多图案光刻和机器学习的运用等。随着新的处理技术(比如,新型晶体管结构、新材料)和新的设计要求(比如,可靠性和安全性)的出现, 协同性DFx将面临许多新的机遇与挑战。本次讲座还会提及DFx对纳米光子集成等新兴技术的需求以及FPGA等新型应用。


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